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標題: 各子館之補充規定 [打印本頁]

作者: Tang 時間: 2013-8-28 21:50
標題: 各子館之補充規定
本帖最後由 Tang 於 2013-11-17 17:27 編輯

主展館補充規定

一、素材利用
　　1. 使用素材只能做為背景、裝飾等輔助使用，不得作為畫面主體。
　　2. 素材需經處理符合畫面整體美感，
　　　過於突兀、明顯未處理者將關閉主題，修改後通知管理員才能開啟。
　　3. 文章內需註明那些部分有使用素材與素材來源

二、關於描圖、臨摹
　　1. 此類作品請至咖啡區以練習為主題發表，否則視為違規。
　　2. 詳細定義與發表方式請見咖啡區相關規定。

副展館補充規定

一、素材利用
　　1. 必須於描述中清楚註明使用了哪些素材、素材作者、來源網址。
　　2. 素材佔畫面比例40%以上者，須於描述中解釋個人創作、設計部分為何，
　　　例如：文字排版、色調調整等等。

二、發文內容格式

　　1. 攝影作品
　　　●拍攝地點：
　　　●拍攝日期：（年／月／日）
　　　●使用相機：（相機廠牌型號）
　　　-------（選填）-------
　　　●鏡頭：（望遠／廣角／魚眼／定焦／變焦 etc.可寫型號代替）
　　　●快門：
　　　●光圈：
　　　●焦距：
　　　●ISO：
　　　●曝光：
　　　●閃光：（有／無／可加註型號）
　　　●白平衡：
　　　--------------------
　　　●後製：（有→軟體名稱／無）
　　　●描述：

　　2. 平面設計作品發文格式
　　　●使用媒材／軟體：
　　　●素材：（全自創／素材來源）
　　　●描述：

　　3. 影音作品發文格式
　　　●拍攝地點：
　　　●拍攝器材：
　　　----（選填）----
　　　●錄音器材：
　　　●使用音源：（使用現成素材者請註明來源、並務必注意勿侵犯原作權利）
　　　--------------------
　　　●後製軟體：
　　　●描述：

　　4. 立體作品發文格式
　　　●使用材料：
　　　●使用工具：
　　　●描述：

圖文館補充規定（本區實施細則議定中，暫不開放）

一、創作規範
　　1. 作品必須符合美術館與文學館兩館之規定。　　

二、注意事項
　　1. 文學館與美術館的圖文館相通，作品請發表一次即可。
　　2. 字數可少於文學館規定之1000字，視圖文配合需要調整。

個人畫廊補充規定

一、申請準則
　　1. 無任何違規作品。
　　2. 館務不會主動開啓專版，達到條件者請自行申請。
　　3. 美術館館務群保有最後核定權力。

二、開設條件

方案 I
　　1.在美術館發表文章達5次以上。
　　　（僅限正式作品與教學，不含練習、過程分享等。）
　　2.至少10人點評回應過。
　　　（單一作品或各個作品累計皆可，同一帳號回應不可重複計算。）
　　3.每篇作品推薦星數平均達4.5或有1篇以上精華。

方案 II
　　1.在美術館發表文章達20次以上。
　　　（僅限正式作品與教學，不含練習、過程分享等。）
　　2.至少20人點評回應過。
　　　（單一作品或各個作品累計皆可，同一帳號回應不可重複計算。）
　　3.每篇作品推薦星數平均達4或有1篇以上精華。

三、申請格式
　　1.標題格式：「作者名稱　個人畫廊開設申請」
　　2.內文格式：
　　　●申請人：
　　　●畫廊名稱：＿＿＿＿＿（請勿頻繁更改）
　　　●主題分類：＿＿＿＿＿（請勿頻繁更改）
　　　└預設為作品發表、作者發言、粉絲發言三種分類
　　　└需更改或增加分類可自行填寫，由管理員替您開設，請依序填寫
　　　└沒有限制開幾個分類，不強迫使用分類
　　　└可開版後再進行分類
　　　●允許讀者於專版上發主題：是/否
　　　●符合規定數量之文章連結

四、個版作者管理權限
　　1.可自由設置是否使用付費觀看功能。
　　2.可於自版內頂置公告、設精華與蓋其它圖標、圖章。
　　3.可於自版內發起活動；譬如投票、懸賞等等。
　　4.不可刪帖，但可屏蔽帖子。
　　5.不可封鎖會員IP或禁言，有重大問題和糾紛請直接提報館務群。

五、注意事項
　　1.專版作者若需暫時關閉專區，請向館主提報，將被移至隱藏區（仍可經過連結閱讀）。
　　2.一年內無任何正式作品或教學發表者，將隱藏畫廊、禁止閱讀。
　　3.達兩年無任何正式作品或教學，將撤除個人畫廊。
　　4.申請復版請於三天內發表一篇正式作品或教學，
　　　逾期者請於一個月後再申請，並且提供文章作為複查。
　　5.獎懲制度、管理方式以美術館館規與館務群為準。

咖啡區補充規定

一、積分設置
　　1. 本區發表主題無積分獎勵。
　　2. 教學帖或其他內容優秀之主題可獲得管理員獎勵。

二、關於練習作品、創作過程分享
　　1. 練習作品優秀者仍有機會獲得管理員獎勵與收入精華。
　　2. 發表創作過程後，完成品可再發表至展館。（限原創作品）

三、關於描圖、臨摹
　　1. 臨摹定義為將原作放在一旁，以觀察力創造出類似畫面，不可有描圖、吸色等過程。
　　2. 描圖只允許作為練習或討論之部分過程，
　　例如描畫線稿後做各式上色、配色練習，或描不同作品構圖線條，進行比較分析等。
　　3. 臨摹作品須於標題註明[臨摹]，並附上原圖、原作者、來源網址。
　　4. 有描圖過程之作品須於標題註明[有描圖]，
　　　於描述清楚註明描圖理由、過程，並附上原圖、原作者、來源網址。
　　5. 務必尊重原作，若有侵害原作權利或造成作者不便之情況皆刪文處理。
　　6.標示不清、理由不夠充分者皆視為違規。

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